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[发布] Tech-X公司发布VSim11软件

发表时间:2021-05-28

Tech-X Corporation发布最新版本的VSim,这是一种基于强大的 Vorpal 物理引擎构建的跨平台、多物理场仿真工具。VSim11.0具有重要的新功能,包括增强的用户界面、新的Cut-cell泊松求解器以及大量新的仿真模板和分析器。新功能改进了计算速度、准确性和用户工作流程,并将使对电磁和动力学等离子体模拟感兴趣的用户受益。

电晕放电模拟in VSim 11.0

1. 用户界面:直观且增强

VSim11的设计重点是用户体验,用户会注意到图形用户界面的重大变化,使工作流程更加直观和高效。VSim11中允许增加对导入的和用户创建的实体进行操作,包括:分裂、复制、形状愈合、布尔操作等,从而减少花在模型设置上的时间。VSim11还包括修复CAD文件缺陷的能力。

2. 计算引擎:提高精度和速度

在VSim11中包括计算引擎VORPAL的两个重大升级。VSim11中动态等离子体模块的用户将受益于新的Cut-cell泊松求解器,该求解器减少了模拟时间并实现了接近二阶精度。对于对微波器件仿真感兴趣的用户,一种新的空间电荷受限发射基准算法能够处理共形形状并准确处理二次电子发射等复杂情况。

3. 案例和模板:许多新增功能

除了界面和引擎升级之外,还添加了有助于工作流程和软件学习的新功能。新的内置分析器和工具可用于处理仿真数据,而且VSim11可以实现二阶精度远场计算,用于天线或散射的仿真。添加了许多用作培训工具或模拟模板的新示例,包括“使用等离子进行晶圆蚀刻”。

1) 新增案例

VSimEM -> Photonics ->微环谐振器-高斯模式;

VSimEM -> Scattering ->金属球散射;

VSimEM -> Antennas ->偶极辐射;

VSimEM -> Scattering ->带介电涂层的金属球散射;

VSimMD -> Cavities and Waveguides ->圆形金属波导色散;

VSimMD -> Cavities and Waveguides ->矩形金属波导色散;

VSimPD -> Processes -> 3D电晕放电;

VSimPD -> Surface Interactions ->等离子体晶片刻蚀。

2) 改进案例

VSimEM -> Photonics ->带有模式转换器的微环谐振器;

VSimPD -> Spacecraft ->卫星表面带电。


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